基于弹力系本构方程对光弹法测应力分布修正
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案例介绍
对于某一些非双折射材料，在其受到外力时自身结构会产生变化，由此而造成双折射现象。根据这一现象，我们就可以利用圆偏振光穿过形变材料，在形变材料内分为寻常光线和非寻常光线，两束光线折射率不同，由此在两束光射出形变材料时，会产生相位差。我们通过测量其干涉条纹，从而得反推及应力分布。基于这一理论。产生了光测弹性学，并在上世纪八九十年代发展成熟，至今在各方面都有着广泛的应用。
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对于某一些非双折射材料，在其受到外力时自身结构会产生变化，由此而造成双折射现象。根据这一现象，我们就可以利用圆偏振光穿过形变材料，在形变材料内分为寻常光线和非寻常光线，两束光线折射率不同，由此在两束光射出形变材料时，会产生相位差。我们通过测量其干涉条纹，从而得反推及应力分布。基于这一理论。产生了光测弹性学，并在上世纪八九十年代发展成熟，至今在各方面都有着广泛的应用。
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